Exposure 렌즈의 특징

일반적으로, 만들려고 하는 회로패턴과 크기가 같거나 다른 동일한 형상의 마스크를 통해 빛을 통과시켜 그 형상을 광학계를 이용하여 마스크로부터 감광제로 옮기는 작업, 즉 광원을 이용하여 원하는 부분에 미세 패턴을 형성시키는 기술을 광 미세 가공기술(Photolithography)이라 하고, 이러한 공정을 수행하는 장치를 노광장치라고 한다.

• 종류:
  근접노광 → 평행광 노광
  투사노광 → 대면적 노광, 아나모픽 노광, DMD 마스크리스 노광, Fiber 마스크리스 노광
• 시스템 구성 조건에 따라 customize 가능